ラボラトリー向け超純水装置
最高純度の水質を達成
微量分析、半導体洗浄に適した水を安定供給 （～60L / 日）
特徴
最高純度の水質
メタル≦0.01ppt、シリカ≦50ppt、ホウ素≦1ppt（50nm以上）≤1個/mlを達成。
※オルガノ分析部門による評価結果。メタル、ホウ素、微粒子はオプションカートリッジを採用。
水銀フリーUVランプ
安全かつ環境に配慮したXe（キセノン）エキシマランプを採用。
高機能ディスペンサー
視認性に優れたタッチパネル。感覚的に操作しやすいボタン配置。
環境へ配慮した設計とオプション品
超純水溶接液部には溶出の少ない材質を使用し、微量物質の混入に配慮。
流量調節ができるアクセル型フットスイッチを用いることで人為的な 汚染リスクを軽減。
ICP-MS専用リンスポートにより、高純度の超純水を分析装置に導入。
用途
微量元素分析用水
有機化合物分析用水
試薬調整、洗浄用水
スペック
フロー
